El fabricante norteamericano de chips invertirá 2.700 millones de dólares en sus instalaciones del sur del país para producir tecnología de 22 nanómetros para semiconductores.Este plan de inversión bianual incluye una subvención de 210 millones de dólares que ha sido recientemente aprobada por el gobierno.La inversión convertirá a la planta de Kiriat Gat en la segunda instalación de Intel preparada para la producción de tecnología de 22 nanómetros. El nuevo proyecto creará aproximadamente otros mil puestos de trabajo para el año que viene.Los directivos de la empresa han programa comenzar la producción en diciembre, y los primeros chips de 22 nanómetros estarán listos a principios de 2012.Intel tiene actualmente 7.057 empleados en Israel. Esta empresa de alta tecnología es una de las más grandes del país.Intel recibió 1.200 millones de dólares en subvenciones por parte del gobierno desde que comenzó a producir en nuestro país hace 25 años. Hasta el año pasado, la empresa estadounidense ha invertido 7.300 millones de dólares en Israel.
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